锦屏一级水电站导流洞底孔下闸成功

来源：中国能源建设集团有限公司

发布时间：2013年09月26日

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9月15日~18日，葛洲坝二公司承建的锦屏一级水电站右岸导流底孔3号、5号、4号孔成功下闸，为锦屏一级水电站实现第三阶段蓄水奠定了基础。

此次导流底孔下闸，在技术、施工层面都极为困难。项目部专门召开了动员会，根据施工措施和应急预案仔细地核实各项工作准备情况，对未完成情况进行了催促并给出了意见，同时也对下闸成功后的封堵事项进行了安排部署。在下闸过程中，顺利完成业主交待的首孔下闸任务，对5个导流底孔完成下闸，进行封堵施工。

第三阶段蓄水是从1800米蓄到1840米高程，下闸前蓄水高度已达110米,在蓄水高度高达110米的水底下闸排国内前列。

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